חדר נקי

מתוך ויקיפדיה, האנציקלופדיה החופשית
קפיצה אל: ניווט, חיפוש
חדר נקי במתקן של NASA
חדר נקי במפעל מיקרואלקטרוניקה
Typical cleanroom head garment

בתעשייה, חדר נקי הוא אזור במפעל שבו נשמרת רמת ניקיון גבוהה ביותר (גבוהה מזו שבחדר ניתוח). רמת הניקיון נמדדת ביחידות של מספר חלקיקים למטר מעוקב.

רמת ניקיון גבוהה זו נדרשת בייצורם של מוצרים מסוימים, ובפרט שבבים אלקטרוניים, שאפילו גרגר אבק עלול לשבש את ייצורם. בחדר נקי קיימות מערכות בקרת אקלים מורכבות שמסננות את האוויר, מורידות את רמת הלחות ועוד.

העובדים בחדר הנקי לובשים חליפות מיוחדות העשויות מחומרים שאינם פולטים חלקיקים ומצוידות במערכת נשימה, המונעות את זיהומו של החדר בחלקיקים. קירות החדר עשויים מחומרים שאינם פולטים חלקיקים. הניקיון בחדרים מתבצע כחלק מהעבודה השוטפת בחדר ועם חומרי ניקוי מיוחדים.

בתעשיות השונות קיימים חדרים שונים. בתעשיית המיקרו-אלקטרוניקה ישנה הקפדה גבוהה על מספר החלקיקים ועל רמת לחות שתהיה מדויקת סדר גודל של 45%±3% על מנת למנוע היווצרות חשמל סטטי שיכול להרוס את המכשירים והרכיבים המיוצרים. הטמפרטורה בחדר צריכה להיות 20°C±0.2°C.
בתעשיית התרופות ישנה הקפדה גבוהה על רמת הניקיון וכמו כן על מניעת מושבות של חיידקים ולכן מקפידים על משטחים חלקים לחלוטין, ללא חריצים וחורים, על ידי שימוש בסיליקון אנטי-בקטריאלי.
בתעשיית הזכוכית (זכוכית שכבות לדוגמה), קיימים חדרים נקיים לשיפור התהליך, ובהם נשמרת רמת לחות נמוכה (19%) וטמפרטורה נמוכה (20°C~), על מנת לשמור על תהליך ההדבקות של זכוכית השכבות באמצעות החומר P.V.B.

בישראל יש חדרים נקיים במפעלי היי טק אחדים, כגון מפעלי הייצור של החברות אינטל, אפלייד מטריאלס, אורבוטק, טאוור סמיקונדקטורס, במפעלי התרופות של טבע, במפעלי התעשייה האווירית שעוסקות בתחום החלל מב"ת, אלתא ומל"מ וכן במכון ויצמן למדע, בטכניון ובאוניברסיטת תל אביב.

עקרונות זרימת אוויר בחדר נקי[עריכת קוד מקור | עריכה]

Air flow pattern for "Turbulent Cleanroom"
Air flow pattern for "Laminar Flow Cleanroom"

תקן לחדרים נקיים ISO 14644-1[עריכת קוד מקור | עריכה]

חלקיקים מותרים/מטר מעוקב
Class 0.1 µm 0.2 µm 0.3 µm 0.5 µm 1 µm 5 µm
ISO 1 10 2        
ISO 2 100 24 10 4    
ISO 3 1,000 237 102 35 8  
ISO 4 10,000 2,370 1,020 352 83  
ISO 5 100,000 23,700 10,200 3,520 832 29
ISO 6 1,000,000 237,000 102,000 35,200 8,320 293
ISO 7       352,000 83,200 2,930
ISO 8       3,520,000 832,000 29,300
ISO 9       35,200,000 8,320,000 293,000

תקן זה נקבע על פי מספר החלקיקים בגודל 0.1 µ המותרים בנפח של m3 (הגדרת התקן הינה על פי המעריך של 10 במספר החלקיקים המותר- לדוגמה: ISO 1==>101)

תקן אמריקני פֶדֶרָלִי 209E - תקנים לחדרים נקיים[עריכת קוד מקור | עריכה]

US FED STD 209E cleanroom standards

particle/ft³
Class 0.1 µm 0.2 µm 0.3 µm 0.5 µm 1 µm 5 µm
1 35 7 3 1    
10 350 75 30 10 1  
100 3500 750 300 100 10 1
1,000       1,000 100 10
10,000       10,000 1,000 100
100,000       100,000 10,000 1,000

תקן זה נקבע על פי מספר החלקיקים בגודל 0.5 µ המותרים בנפח של ft3

הערה: התקן הנ"ל (US FED STD 209E) בוטל ב-29 בנובמבר 2001. הפניה להודעת הביטול.


טבלת השוואת תקנים[עריכת קוד מקור | עריכה]

ISO 14644-1 FED STD 209E
ISO 3 1
ISO 4 10
ISO 5 100
ISO 6 1,000
ISO 7 10,000
ISO 8 100,000